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磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高?

    在使用磁控溅射镀膜设备的时候,使用通常的溅射方法,发现溅射效率都不是非常的高。为了提高溅射的效率,加快工作的进度。
    那么该如何加快这种设备的使用效率呢?这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。

浅析磁控溅射镀膜设备镀膜优势
    通常在健身过程中,经过加速的入射离子轰击靶材阴极表面的时候,会产生电子发射,而这些在阴极表面产生的电子开始向阳极加速进入负辉光区,和中性气体原子进行碰撞,产生的自持的辉光放电所需离子。电子在平均只有程随着电子能量的增大而增大,随着气压的增大而减小,特别是在远离阴极的地方产生,它们的热壁损失也是非常大的,这主要是因为其离化效率低。

CCZK-SF磁控溅射镀膜设备

CCZK-SF磁控溅射镀膜设备

 


    因此可以加上一平行阴极表面的磁场就能够将初始电子限制在阴极范围内,能够有效的增加气体原子的梨花效率,从而提高磁控溅射镀膜设备的溅射效率。

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