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离子镀膜技术

    离子镀膜机,是一种需要在较高真空度下进行的镀膜的仪器,离子镀膜技术(离子镀)是美国Sandia公司的D.M.Mattox于1963年首先提出的,1972年,Bunshah提出了活性反应蒸镀法。离子镀膜技术现已在航空业、钟表行业、装饰、冲孔冲模、高速钢刀具上运用。
    多弧离子镀是种比较先进的镀膜技术,在真空蒸发和溅射镀膜的基础上发展起来的,相应的仪器就是驰诚CCZK-ION多弧离子真空镀膜机。它的优点可概括成以下几点:
    1、金属离化率高;
    2、一弧多用;
    3、沉积速度快,绕镀性好;
    4、膜的附着力高。
    除此之外,可任意设置镀膜室适当的位置,也可采用多个电弧蒸发源;简化基片转动机构等。

 离子镀膜机的工作原理

 


CCZK-ION多弧离子真空镀膜机

CCZK-ION多弧离子真空镀膜机

 


   

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