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磁控溅射镀膜设备制备的溅射薄膜的特点

     用磁控溅射镀膜设备制备出的溅射薄膜具有如下特点:
    1、膜厚可控性和重复性好
    可控性指的是膜层的厚度是否可以控制在预定的数值上,重复性指的是所需的膜层厚度的重复性再现。由于磁控溅射镀膜设备的放电电流和靶电流是分别控制的,所以控制靶电流可以控制膜厚。
    2、薄膜与基片的附着力强
    溅射原子能量比蒸发的高,所以沉积在基片上的能量转换也高,产生的热能也高,这提高了薄膜的附着能力。
    3、可制备特殊材料的薄膜
    几乎所以的固体都可用该法制备薄膜。还可以将不同的材料同时溅射制备混合膜、化合膜。若使用不同的材料次序溅射,可制备多层膜。
    4、膜层纯度高
    由于不需要借助坩埚构件,所以膜层中不会混入加热材料的成份,纯度高。

真空镀膜技术是一项极具潜力的技术

CCZK-SF磁控溅射镀膜设备

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